株式会社Elithは、 言語処理学会におけるスポンサー賞「Elith賞」 を、 奥田 悠斗様・鶴岡 慶雅様（東京大学）の研究「ファインチューニングにおける学習データの形式情報がLLMの安全性に与える影響」 に贈りました。 本研究では、学習データの形式が複雑になるほどLLMの安全性が低下することや、形式分離学習によるタスク性能とのトレードオフを明らかにしており、安全性と性能の両立が重要であることを示しています。 Elithは顧客向けLLMのファインチューニングでも安全性と性能の両立を重視しており、本研究の知見を高く評価しスポンサー賞に選定いたしました。 Elithは、安全で信頼できるAI技術の普及に向け、引き続き取り組んでまいります。
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公式発表と現場・研究からの記録を、テーマを横断して掲載しています。
お知らせ・フィールドノート
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株式会社Elithは、2025年5月27日（火）〜30日（金）に開催される「2025年度 人工知能学会全国大会（JSAI2025）」において、プラチナスポンサーとして協賛いたします。 JSAIは、AI分野における国内最大級の学術会議であり、産学官の研究者・実務家・学生が一堂に会し、先進的な人工知能技術の研究発表と議論が行われる場です。 Elithは、AI技術の社会実装を推進する企業として、産業応用と研究開発の両輪を重視しており、本協賛を通じて研究コミュニティとの連携をさらに深め、次世代技術の進展に貢献してまいります。 今後も、学術・産業の架け橋となる活動を積極的に支援し、次世代のテクノロジーを切り拓く企業として、常に革新的な価値を創